显微镜来进行量测八阶及灰阶微透镜-测量元件特性

元件特性之量测
　　
实验量测结果包含了蚀刻速率、表面轮廓、以及光学特性等资料。
其中表面轮廓之量测方法有表面轮廓测厚仪及扫描式电
子显微镜来进行量测八阶及灰阶微透镜。

蚀刻速率之量测
　　在制作绕射式光学元件的过程中，会经过活性离子蚀刻的制
程，为了要使蚀刻后的深度符合光学计算的结果，必须要求蚀刻速
率的精準度。

　　若是制作八阶微透镜，我们则需要对基板的蚀刻速率具有相当
的了解，每经由一次的 RIE 蚀刻过程，其对元件品质的影响是具有
累加性的﹔若是制作灰阶微透镜，我们就必须强烈的要求光阻与基
板的蚀刻速率比为一定值，甚至蚀刻速率比要完全相同，才能将光
阻上的图案複制到基板上。

　　我们寻找适当的蚀刻条件来制作微透镜，

使用的基板为石英基板，光阻则是 AZ 1500﹔蚀刻气体为四
氟化碳，真空腔内部的压力设为 50mtorr，蚀刻功率为 125W 。