电镜的分辨率较光学显微镜更高-集成电路技术研究
亚微米技术的主要受益者将是用户。品种范围更为广泛、
价格极为低廉的微处理器、微型计算机、存贮器和其它大规模集
成电路器件将会投入市场。无论双极型注入逻辑还是MOS器
件的亚微米技术都进展迅速。
不断成熟的集成电路技术所出现的主要突变是基于不再受
可见光或紫外光限制的制造方法。正象电子显微镜的分辨率
比光学显微镜更优越一样，电子束技术亦将对集成电路工业产
生重大的影响。电子柬技术的优点是电子的波长要比光的波长
短得多。目前，电子束技术与X射线技术竟相争辉。
X射线的优点在于它沿直线传播，不象电子束那样需要真
空，这样就可简化生产技术。
亚微米技术对集成电路生产厂的影响举足轻重。亚微米技
术可应用于目前生产的产品，以降低成本。半导体性能的基本
标准之一是每片硅片的净合格管芯数。对今天的许多产品来
说，亚微米技术将显示其优越性。因为在每片硅片上可制作更
多的电路，成品率也可提高，所以在相同功能基础上每片硅片的
净合格管芯就增加了。
亚微米技术的研究和生产技术的开发一般是由目前在集成
电路工业中尚未居领先地位的公司进行的。在集成电路市场上
通常被认为是无足轻重的国际商业机器公司、北方电信公司和
休斯公司在亚微米研究方面取得了重大的成果。贝尔实验室、西
喇及其它类似研究机构的内部研究工作也可能会对集成电路
商业市场产生间接的影响。一个明显的例外是得克萨斯仪器公
司所进行的研究，该公司致力于亚微米技术的早期应用和生产。
