抛光表面局部形成了较厚氧化膜电解液抛光工艺技术
(1)若抛光工艺丧失抛光功能，甚至发生了腐蚀现象，这多半
是由于电路接触不良，或断路状态无电解作用，或所用的硫酸(工
业级)杂质太多。
(2)使用含铬电解液抛光工艺，若抛光表面局部形成了较厚氧
化膜，影响了抛光表面的光亮度，这很可能是由于电解液中三价铬
的含量太高(如超过5％)造成的。减少三价铬的较好办法，是采用
大面积的阳极，进行通电处理，将三价铬转变为六价铬。
(3)造成电抛光工艺失效的较主要原因之一，是电解液中铝离
子积聚太多(如2．5％以上)。欲恢复电解液的抛光功能，只能是部
分或全部更换新电解液。
(4)配制电解液的用水，应尽量使用含氯离子少于80mg／L的高
纯水，或去离子水。以免电解液中存在过多的氯离子影响抛光质量
。有文献指出，当电解液中氯离子含量达到0．1％一1．0％时，抛
光表面易出现点状腐蚀。
(5)在抛光具有较深凹孔的制件时，被抛光的凹孔表面的光亮
度，往往不如平面和凸面。这时可采用特制的象形辅助阴极，以强
化较深凹孔表面的电力线，提高凹孔表面的抛光光亮度。例如闪光
机回光罩等的电抛光。
(6)铝质矿灯反射器的电抛光，造成点状腐蚀的原因大多是化
学除油污工艺不当。该制件的加工工艺为机械抛光一化学除油污—
>电抛光。其中机械抛光的目的，是去除制件表面的划伤，及明显
的固体沾污等。但在机械抛光过程中，被抛光表面又会沾污上不少
抛光膏，这些抛光膏中含有不少非皂化性矿物油。因此，在通用的
碱性化学除油污溶液中，欲通过皂化和乳化作用达到完全彻底除油
污的工艺目的，是不太容易的
