抛光实验表面粗糙度-分析表面粗糙度和表面形貌
磁头的超精密抛光是存储介质行业一项十分重要的工作，用于
产生一个平面度好、表面粗糙度值很小的表面，且只允许在磁头与
存储介质间(如磁盘等)有很小的间隙，这项工作可以通过对几个加
工参数优化得到，主要包括抛光剂的种类、抛光盘材料、抛光盘和
工件的速度、抛光时间、抛光时施加给工件的压力等。
供了磁头抛光加工时材料去除率和表面粗糙度的实验数据
，这两个参数由于反映了消费者需求，因此被磁头制造商们认为是
较重要的两个因素。在磁头的超精密抛光这个过程中，主要为了得
到抛光剂类型与材料去除率间的关系，抛光剂的特征参数包括颗粒
尺寸、浓度、数量等。
采用单晶和多晶磨粒的抛光剂对工件加工效果的影响规律。
在超精密抛光时，改变抛光剂类型将改变加工特征，从而改变材料
去除率和表面粗糙度。
对磁头超精密抛光进行研究时，首先要对磁头的表面粗糙
度和材料去除率进行定性和定量分析。保持其他参数恒定，仅改变
抛光剂类型，可根据消费者在批量、经济性、表面质量等方面的不
同要求，制定出较优的选择。
抛光实验时，保持其他几个参数(抛光盘材料、抛光盘表面粗
糙度、时间、负载、速度、抛光剂的量)恒定，对四种不同抛光剂
进行研究。实验时首先利用抛光盘进行加工，直至工件的粗糙度达
到20～30微米，较大凹度达到25微米。下一阶段实验是对抛光盘使
用抛光剂时对工件的表面纹理进行研究，将12kg的负载施加到陶瓷
环上，加工时间大约为99min。
将5．5kg的负载加到工件上，研磨加工时间大约为99min
，然后将清洗和测量后的工件装入工件固定器，每批次加工6件，
工件与工件间呈60度摆放，每批抛光大约12min，接着在清洗槽里
用1％酒精试剂清洗，然后重新测量。完成这些后再利用原子力显
微镜观察工件，分析表面粗糙度和表面形貌。
