光学元件和抛光模的形状轮廓计量图像显微镜
目前人们对抛光的机理尚未完全掌握。持续的研究和调查表明，研
磨剂、流量冷却、静电引力、化学反应都会对抛光产生一定影响。在本
书中，抛光可以理解为分子量级上的材料去除，和研磨不同的是它不会
引起裂纹。
传统抛光是添加抛光液到抛光模上对光学元件表面进行研磨。抛光
液中的固体颗粒附着在抛光模上．并在被加_[元件的表面滑动(而非滚
动)。
抛光模由柔性沥青层(木松香、焦油或合成树脂)、聚氨基甲酸乙酯
以及刚性基底上的微孔纤维组成。典型的抛光液通常是二氧化铈悬浮液
(用于玻璃)或氧化铝悬浮液(用于金属和石英晶体)。其他种类的抛光模
和抛光液通常用于特殊情况，如锡模上加油性金刚石。
抛光中，光学元件和抛光模的形状都会根据作用力的分布和被加工
元件与抛光模之间的总路程而缓慢变化，这取决于光学技师所做的调整
和收敛性操作，以尽量使光学元件达到期望的形状。
新型子孔径抛光法包括磁流变抛光(MRF)、射流抛光、利用缎带的
柔性抛光(UFF)、旋进或气囊抛光射法。这些抛光法都需要专业且昂贵
的机械装备。
抛光剂
抛光剂由研磨颗粒、流体载体以及可选择的添加剂组成。这些添加
剂包括悬浮剂、润滑剂、洗涤剂、杀菌剂和pH值调节剂。
